Kontakt Foto Positiv 20 - 200ml

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Gewicht: 0.3000 kg

Hersteller: CRC Industries (Kontakt Chemie)

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Art.Nr.: K20-200-M19
     

Produktbeschreibung

Fotopositiv-Resist zur Herstellung lichtempfindlicher Beschichtungen. Damit können transparente Vorlagen direkt auf Werkstoffe kopiert werden. Die max. Lichtempfindlichkeit liegt bei 340 - 420 nm. Typische Anwendungen sind die Herstellung von Leiterplatten oder fotolithografische Arbeiten.

Sicherheitsdatenblatt


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